Tecnologia

1. Pulsed Plasma Deposition

La PPD é una tecnica di deposizione di film sottili innovativa che supera molte delle limitazioni di cui soffrono gli approcci convenzionali oggi utilizzati dall'industria del fotovoltaico. La PPD permette di ottenere film a costi competitivi con ottime caratteristiche anche su substrati di grandi dimensioni.

È una tecnica proprietaria che si basa sull'ablazione diretta di un target mediante impulsi di elettroni ad alta energia. Cioè, la PPD permette di prelevare del materiale da un dischetto (target) e "spruzzarlo" su un oggetto (substrato). Si ottiene in questo modo sul substrato un sottilissimo rivestimento della stessa composizione del materiale di partenza. Sovrapponendo più strati di materiali diversi nel modo opportuno si ottiene una struttura che trasforma la luce in elettricità: la cella fotovoltaica. I materiali cresciuti con questa tecnica presentano ottime caratteristiche chimico-fisiche difficilmente ottenibili con altri processi utilizzati nella produzione di film industriali quali ad esempio: PECVD, sputtering, sublimazione ed evaporazione.

Principio di funzionamento della PPD.

PPD in funzione.

La PPD permette inoltre di depositare film potenzialmente su qualsiasi substrato, è adatta ad essere applicata su grandi superfici, ha una elevata velocità di crescita e non richiede alte temperature. Grazie a queste caratteristiche, si dimostra quindi uno strumento eccezionale per la produzione di celle fotovoltaiche flessibili a basso costo. Si adatta infatti alle necessità della produzione industriale e rende possibile la fabbricazione di celle in continuo su nastro.

2. Proprietà Intellettuale

La PPD e le sue applicazioni sono protette da brevetti nazionali ed internazionali.